بررسی و تحلیل رفتاری لایه برداری سطحی ناهمسان گرد سیلیکون در محلول tmah

بررسی و تحلیل رفتاری لایه برداری سطحی ناهمسان‌گرد سیلیکون در محلول TMAH

 این مقاله به بررسی و تحلیل رفتاری لایه برداری سطحی ناهمسان­گرد سیلیکون (100) در هیدروکسید آمونیم­ تترامتیل(TMAH) پرداخته است. فرآیند حکاکی در محلول TMAH با غلظت­های مختلف 5%، 10%، 15% و 25% و در دماهای مختلف oC 70، oC 80 و oC90 انجام شد. نتایج نشان می­دهد که نرخ زدایش با افزایش دما، افزایش می­یابد ولی این نرخ با افزایش غلظت TMAH در غلظت­های بیشتر از 10% کاهش می­یابد. بیشترین نرخ زدایش برابر با...

روش اجزای مجزای سه‌بعدی در تحلیل ظرفیت باربری پی‌های سطحی بر روی خاک‌های لایه لایه

در تحقیق حاضر، روش محاسبه ظرفیت باربری پی های سطحی به روش المان‌های مجزای سه بعدی، ارائه شده توسط مجیدی، برای خاک‌های لایه لایه (غیر همگن) و همین طور در حضور آب زیرزمینی گسترش داده شده و نتایج با روش‌ها و تحقیقات صورت گرفته در این زمینه مورد مقایسه قرار گرفته است. در تحقیق حاضر برنامه کامپیوتری نوشته شده قادر است برای حالات مختلف خاک لایه لایه با پارامترهای مقاومت برشی مختلف و همین طور خاک‌های...

TMAH/IPA anisotropic etching characteristics

The main advantage of tetramethyl ammnium hydroxide (TMAH)-based solutions is their full compatibility with IC technologies. In this work a new etching system of TMAH/IPA (isopropyl alcohol) is suggested. The influence of the addition of IPA to TMAH solutions on their etching characteristics is presented. The etch rates of (100) oriented silicon crystal planes decreases linearly with decreasing...

Degenerate Four Wave Mixing in Photonic Crystal Fibers

In this study, Four Wave Mixing (FWM) characteristics in photonic crystal fibers are investigated. The effect of channel spacing, phase mismatching, and fiber length on FWM efficiency have been studied. The variation of idler frequency which obtained by this technique with pumping and signal wavelengths has been discussed. The effect of fiber dispersion has been taken into account; we obtain th...

اصلاح سطحی الاستومر سیلیکون به منظور افزایش آبگریزی آن

افزایش چسبندگی سطحی لایه‌نازک اکسید‌گرافن روی بستر سیلیکون آبگریز

در این تحقیق، لایه­های اکسید­­گرافن[1] باردار توسط روش رایج اصلاح ­شده هامر[2]، سنتز گردید. لایه­نازک اکسید­گرافن به روش لایه­نشانی الکتروفورتیک[3] توسط سوسپانسیون کلوئیدی آبی اکسید­گرافن روی زیرلایه سیلیکون[4] لایه­نشانی شد. جهت بهبود میزان چسبندگی لایه­های اکسید­گرافن روی سطح آبگریز سیلیکون، عملیات اصلاح سطح زیرلایه­ توسط ذرات نقره انجام گرفت. فرایند احیا اکسیدگرافن لایه­نشانی شده در دمای ºC4...